삼성DS.. 첨단 공정 반도체 공장 증설

파장 짧은 대역 빛 이용 고성능 반도체 생산

화성인터넷신문 | 기사입력 2018/02/20 [11:54]

삼성DS.. 첨단 공정 반도체 공장 증설

파장 짧은 대역 빛 이용 고성능 반도체 생산

화성인터넷신문 | 입력 : 2018/02/20 [11:54]

 

화성인터넷신문황기수 기자= 삼성전자가 오는 23일 경기 화성 반도체 공단에서 극자외선(EUV)을 이용한 첨단 공정 전용 반도체 제조 공장 증설에 착수, 신공장 기공식을 열고 공장 건설을 시작할 예정이다.

 

이르면 내년 건물을 준공해 설비 반입, 수율 안정화 등의 절차를 거쳐 2020년부터 제품을 양산하는 것이 목표로 증설 공장은 EUV 노광기가 적용될 예정이기 때문에 'EUV 라인'으로 명명될 전망이다.

 

EUV 노광기는 종전 설비보다 파장이 짧은 대역의 빛을 이용하기 때문에 보다 고성능 반도체를 생산하는데 유리한 설비로 알려져 있으며 삼성전자는 화성 신공장을 통해 파운드리(반도체위탁생산) 시장에서 경쟁력을 키우고 세계 2강 지위를 확고히 하겠다는 방침이다.

 

 
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